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并且光刻机里有两个同步运动的工件台

  光刻机是制造芯片的必备工具,由于我国研发光刻机的时间比较迟,所以技术水平不高,要想突破荷兰ASML的技术还是很难,目前荷兰ASML占据了全球市场份额的80%以上。能够制造高端光刻机的国家没有几个,第一的是荷兰ASML,第二是日本的Nikon,第三是日本Canon三大品牌为主。日本的这两家企业,bet36体育投注在市场占有率上比较小,一般都是首选荷兰的ASML。

  光刻机的技术难度特别高,被称为现在的光学工业之花,堪称人类智慧集大成的产物。它的整体需要上万个精密部件,上万行的代码,以及高精确的机械工艺技术。尤其是在光源和底片方面,ASML由美国和德国的支持,也就是美国给它提供了最新进的光源技术,而德国卡尔蔡司提供了顶尖的镜头。

  大家都知道,很多高端镜头都使用的是卡尔蔡司镜头,蔡司祖孙三代在同一家公司的同一个职位,镜片材质做到均匀,需几十年到上百年技术积淀。并且光刻机里有两个同步运动的工件台,一个载底片,一个载胶片。两者需始终同步,误差在2纳米以下。两个工作台由静到动,加速度跟导弹发射差不多。

  目前芯片制造是离不开光刻机的,光刻机就是芯片制造的灵魂,不可取代。而有些人说蚀刻机可以,我只能说他们根本没有搞清楚光刻机和蚀刻机的原理和区别。那为什么光刻机无法取代?蚀刻机又是什么?

  光刻机进行光刻的过程跟洗照片是非常类似,洗照片是把影像用底片复制到相片上,而光刻是我们把设计好的集成电路图通过紫外光源用掩模板刻到硅晶圆上。相对于蚀刻来说,光刻要复杂得多,比如一片光罩其实就有几十层,感光胶也根据不同情况要用不同的材料。

  光刻机技术壁垒很高,需要高度专业的光学技术和电子工业基础,以及变态的制造精密程度。研发光刻机需要投入巨大的资金和人力支持,而制造一台光刻机需要整合数科技,数万项专利技术,数十万个精密部件,所以说光刻机还真不是你想搞就能搞出来的。

  了芯片制造工艺,就该知道很多人说的蚀刻机代替光刻机是不行的,这就是芯片制造的两个工艺步骤,缺了蚀刻机也是万万不行的。现在的蚀刻有干法蚀刻和湿法蚀刻两种,所以对应有两种蚀刻机。

  湿法蚀刻是一种利用化学试剂将晶圆表面的多余薄膜腐蚀去除的方法,因为是在液态环境下实现的,所以叫湿法蚀刻。干法蚀刻是利用等离子体,轰击晶圆表面薄膜,使其产生挥发性从而实现蚀刻。

  我国光刻机起步较晚,但经过十几年发展,已经在逐渐掌握光刻机技术,但是和国外公司相比,仍然处于明显劣势。我国光刻机最高水平可能是上海微电子,90nm工艺制程,而ASML已经达到5nm制程。在精密机械制造方面,我国也是落后于德国、日本等一线企业。

  相对来说,我国的蚀刻机情况比较乐观,处于世界领先水准。我国7nm的蚀刻机已经走出国门,向其他企业出口。最先进的应该说我国5nm制程的等离子蚀刻机,也取得了很多成果。在光刻机方面,我们国家仍旧是处于90nm工艺,部分企业还是处于200nm工艺上。因此,想要赶上ASML还有很长的路要走。

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